Zirkonium karbida(ZrC) ialah bahan seramik bersuhu-tinggi-besar dengan struktur hablur padu berpusat-jenis NaCl-yang tipikal, menampilkan kilauan logam hitam-kelabu. Ciri yang paling ketara ialah takat lebur yang sangat tinggi (kira-kira 3540 darjah ), kekerasan tinggi (kira-kira 25 GPa), dan kestabilan kimia yang sangat baik, membolehkannya mengekalkan integriti struktur dalam persekitaran yang melampau. Bahan ini juga mempunyai kekonduksian haba dan elektrik yang baik dan sifat pengaktifan yang rendah. Ciri-ciri cemerlang ini menjadikannya bahan calon yang sesuai untuk sistem perlindungan terma dalam aeroangkasa,{10}komponen termaju pesawat supersonik dan salutan bahan api reaktor nuklear. Pada masa ini, penyediaan zirkonium karbida bergantung terutamanya pada proses seperti pensinteran{12}suhu tinggi atau pemendapan wap kimia. Aplikasi dan pembangunannya berkait rapat dengan permintaan mendesak untuk bahan persekitaran yang melampau dalam industri{14}}termaju dan teknologi pertahanan masa hadapan.
|
Formula Kimia |
C40H68Zr |
|
Misa tepat |
638 |
|
Berat Molekul |
640 |
|
m/z |
638 (100.0%), 639 (43.3%), 642 (33.8%), 640 (33.3%), 639 (21.8%), 643 (14.6%), 641 (14.4%), 640 (9.4%), 640 (9.1%), 644 (5.4%), 644 (3.1%), 642 (3.0%), 645 (2.4%), 641 (2.0%) |
|
Analisis Unsur |
C, 75.04; H, 10.71; Zr, 14.25 |
|
|
|
Formula molekul bagizirkonium karbidaialah ZrC, dengan berat molekul 103.23. Ketumpatannya ialah 6.73 g/cm ³, takat lebur setinggi 3532 darjah, takat didih ialah 5100 darjah, dan kekerasan Mohs ialah 8-9. Dari segi sifat kimia, ZrC tidak larut dalam asid hidroklorik, tetapi larut dalam asid nitrik dan asid hidrofluorik, serta asid hidrofluorik dan asid sulfurik panas yang mengandungi hidrogen peroksida. Ciri-ciri ini menjadikan ZrC sebagai bahan struktur-suhu tinggi yang ideal dan bahan kalis kakisan. Ia adalah bahan seramik yang penting dengan sifat yang sangat baik seperti kekuatan tinggi, kekerasan tinggi, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kakisan. Ciri-ciri ini menjadikan ZrC mempunyai prospek aplikasi yang luas dalam pelbagai bidang.
Ia mempunyai rintangan kakisan yang sangat baik, rintangan haus, rintangan suhu tinggi, rintangan keletihan yang sangat baik dan kekonduksian yang baik, dan oleh itu digunakan secara meluas dalam bidang-bahan struktur suhu tinggi.
Aeroangkasa:
Lapisan ruang pembakaran: Ia boleh menahan penggunaan jangka panjang-dalam persekitaran suhu tinggi dan tekanan tinggi, dan oleh itu digunakan sebagai bahan pelapik untuk kebuk pembakaran enjin aeroangkasa. Rintangan suhu tinggi yang sangat baik boleh melindungi struktur kebuk pembakaran dengan berkesan, meningkatkan hayat perkhidmatan dan keselamatan enjin.
Jet Propulsion: Ia juga digunakan sebagai komponen utama jet propulsion, seperti tiub bancuhan bahan api, tangki propelan, dan lain-lain. Kekuatan tinggi dan rintangan kakisan memastikan operasi yang stabil bagi pendorong dalam persekitaran yang melampau.
Bilah turbin: Salutan ZrC boleh meningkatkan rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan bilah turbin dalam enjin pesawat, dengan itu memanjangkan hayat perkhidmatan bilah.
Sebuah kapal:
Pendorong: komponen utama yang digunakan sebagai sistem pendorong untuk kapal, seperti cengkerang pendorong, kipas dalam air, dsb. Rintangan kakisan dan rintangan haus yang sangat baik boleh memastikan operasi pendorong yang stabil dalam persekitaran yang kompleks seperti air laut.
Komponen dalaman enjin: Salutan ZrC boleh meningkatkan rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan komponen dalaman enjin marin, dengan itu memanjangkan hayat perkhidmatan enjin.
Elektrik:
Penukar haba: Digunakan sebagai bahan penukar haba dalam industri kuasa. Rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan yang sangat baik boleh memastikan operasi penukar haba yang stabil dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis, dan meningkatkan kecekapan pertukaran haba.
Petroleum, kimia, metalurgi, pemprosesan arang batu:
Reaktor suhu tinggi: Digunakan sebagai komponen utama-reaktor suhu tinggi dalam bidang seperti petroleum, kimia, metalurgi dan pemprosesan arang batu. Rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan yang sangat baik boleh memastikan operasi stabil reaktor dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis, dan meningkatkan kecekapan tindak balas.
Pembawa pemangkin: Ia juga boleh digunakan sebagai pembawa pemangkin, dan luas permukaan spesifiknya yang tinggi dan kestabilan kimia yang sangat baik dapat memastikan operasi pemangkin yang cekap dan stabil.
Ia mempunyai kekerasan yang tinggi dan rintangan haus yang sangat baik, dan oleh itu digunakan sebagai alat pemotong,-bahan tahan haus, dsb.
Alat pemotong:
Bahan salutan yang digunakan sebagai alat pemotong, seperti alat pemotong, mata gerudi, dll. Kekerasan yang tinggi dan rintangan haus yang sangat baik boleh meningkatkan prestasi pemotongan dan jangka hayat alat dengan ketara.
Komponen tahan haus:
Pada beberapa komponen mekanikal yang memerlukan rintangan haus yang tinggi, seperti galas, cincin pengedap, dsb., salutan ZrC boleh meningkatkan rintangan haus komponen, dengan itu memanjangkan hayat perkhidmatannya.
Bahan pengisaran:
Ia juga boleh digunakan sebagai bahan pengisar untuk memproses pelbagai logam keras, kaca, atau korundum. Kekerasan yang tinggi dan rintangan haus yang sangat baik memastikan operasi yang cekap dan stabil semasa proses pengisaran.
Bahan tahan kakisan
Ia mempunyai rintangan kakisan yang sangat baik dan oleh itu digunakan sebagai-komponen tahan kakisan dalam peralatan kimia.
Penukar haba:
Dalam pengeluaran kimia, penukar haba sering bersentuhan dengan pelbagai media menghakis. Digunakan sebagai komponen utama penukar haba, rintangan kakisan yang sangat baik memastikan operasi yang stabil bagi penukar haba dalam persekitaran yang menghakis.
pemangkin:
Ia juga boleh digunakan sebagai pembawa atau komponen aktif untuk pemangkin. Kestabilan kimia yang sangat baik dan rintangan kakisan memastikan operasi pemangkin yang cekap dan stabil di bawah keadaan tindak balas yang kompleks.
Ia mempunyai kekonduksian yang baik dan kestabilan suhu tinggi, dan oleh itu digunakan sebagai bahan untuk menghasilkan-peranti elektronik berkuasa tinggi dan litar-tinggi.
Peranti elektronik berkuasa tinggi:
Dalam sesetengah peranti elektronik-berkuasa tinggi, seperti diod kuasa, thyristor, dsb., ia digunakan sebagai bahan elektrod. Kekonduksian yang sangat baik dan-kestabilan suhu yang tinggi boleh memastikan pengendalian peranti yang stabil dalam-persekitaran suhu tinggi.
Litar frekuensi tinggi:
Dalam litar frekuensi tinggi-, bahan yang digunakan sebagai talian penghantaran, resonator dan komponen lain. Kekonduksian yang sangat baik dan-kestabilan suhu yang tinggi boleh memastikan pengendalian litar yang cekap dan stabil dalam persekitaran-berfrekuensi tinggi.
Bahan Bioperubatan
Ia mempunyai biokompatibiliti dan kestabilan biologi yang baik, dan oleh itu digunakan sebagai pengganti bahan ortopedik dan pergigian.
Sendi buatan:
Bahan yang digunakan sebagai sendi tiruan, seperti sendi lutut tiruan, sendi pinggul tiruan, dsb. Biokeserasian dan kestabilan biologinya yang sangat baik dapat memastikan operasi stabil-jangka panjang bagi sendi tiruan dalam tubuh manusia.
Gigi tiruan:
Ia juga digunakan sebagai bahan untuk gigi tiruan, seperti mahkota gigi, jambatan, dsb. Rintangan haus yang sangat baik dan rintangan kakisan boleh memastikan operasi stabil-jangka panjang bagi gigi tiruan dalam rongga mulut.
Implan ortopedik:
Dalam sesetengah implan ortopedik, seperti kuku tulang, plat tulang, dan lain-lain, ia digunakan sebagai bahan salutan. Biokeserasian dan kestabilan biologinya yang sangat baik boleh memastikan operasi implan-panjang yang stabil dalam tubuh manusia.
Biosensor:
Ia juga boleh digunakan sebagai bahan pembawa untuk biosensor. Kestabilan kimia dan biokompatibiliti yang sangat baik memastikan operasi penderia yang cekap dan stabil dalam persekitaran biologi yang kompleks.
Sistem penghantaran dadah:
Dalam sesetengah sistem penghantaran ubat, ia digunakan sebagai bahan pembawa. Biokompatibiliti dan kestabilan biologi yang sangat baik dapat memastikan penghantaran ubat yang selamat dan berkesan dalam tubuh manusia.
Zirkonium karbida, sebagai bahan seramik yang penting, mempunyai sifat yang sangat baik seperti kekuatan tinggi, kekerasan tinggi, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kakisan. Ia mempunyai prospek aplikasi yang luas dalam-bahan struktur suhu tinggi,-bahan tahan haus,-bahan tahan kakisan, bahan elektronik, bahan bioperubatan dan bidang lain.
ZrC ialah bahan seramik yang penting dengan sifat yang sangat baik seperti kekuatan tinggi, kekerasan tinggi, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kakisan. Ciri-ciri ini menjadikan ZrC mempunyai prospek aplikasi yang luas dalam pelbagai bidang. Kaedah penyediaan ZrC terutamanya termasuk kaedah pengurangan haba, kaedah pemendapan wap kimia dan kaedah sol gel. Artikel ini akan memberikan pengenalan terperinci kepada prinsip, langkah, kebaikan dan keburukan, serta contoh aplikasi ketiga-tiga kaedah penyediaan ini.
Kaedah 1: Kaedah Pengurangan Terma
Kaedah pengurangan haba adalah salah satu kaedah yang paling biasa digunakan untuk menyediakan ZrC. Ia menjana ZrC dengan bertindak balas zirkonium oksida dengan sumber karbon pada suhu tinggi. Kaedah ini mudah, kos-efektif dan boleh menghasilkan-ketulenan ZrC yang tinggi.
1. Prinsip
Prinsip kaedah pengurangan haba adalah berdasarkan tindak balas pengurangan antara zirkonium oksida (seperti zirkonia, ZrO ₂) dan sumber karbon (seperti karbon hitam) pada suhu tinggi, menghasilkan gas ZrC dan karbon monoksida (CO). Persamaan tindak balas adalah seperti berikut:
ZrO2+3C→ZrC+2CO
2. Langkah
Langkah-langkah khusus kaedah pengurangan haba adalah seperti berikut:
(1) Pencampuran bahan mentah:
Campurkan zirkonium oksida (seperti zirkonia) dengan sumber karbon (seperti karbon hitam) dalam perkadaran tertentu. Nisbah pencampuran hendaklah dioptimumkan mengikut ketulenan ZrC dan keadaan tindak balas yang diperlukan.
(2) Memuatkan:
Muatkan bahan mentah campuran ke dalam mangkuk grafit relau pengkarbonan. Pisau grafit mempunyai rintangan suhu tinggi dan kestabilan kimia yang sangat baik, memastikan tindak balas berlaku pada suhu tinggi.
(3) Tindak balas pemanasan:
Panaskan relau pengkarbonan pada suhu tinggi (seperti 2400 darjah ) dalam suasana hidrogen. Atmosfera hidrogen boleh menghalang pengoksidaan zirkonium oksida dan sumber karbon pada suhu tinggi, sambil menggalakkan kemajuan tindak balas pengurangan. Semasa proses pemanasan, zirkonium oksida mengalami tindak balas pengurangan dengan sumber karbon, menghasilkan ZrC dan gas karbon monoksida.
(4) Penyejukan dan pengumpulan bahan:
Selepas tindak balas selesai, matikan sumber pemanasan dan biarkan relau pengkarbonan sejuk secara semula jadi ke suhu bilik. Semasa proses penyejukan, gas karbon monoksida yang dihasilkan dilepaskan secara beransur-ansur, akhirnya menghasilkan produk ZrC.
3. Kelebihan dan kekurangan
Kelebihan:
Kaedah mudah: Aliran proses kaedah pengurangan haba adalah agak mudah, mudah dikendalikan dan mencapai pengeluaran perindustrian.
Kos rendah: Berbanding dengan pemendapan wap kimia dan kaedah sol gel, kaedah pengurangan haba mempunyai kos bahan mentah yang lebih rendah dan tidak memerlukan peralatan yang kompleks.
Ketulenan tinggi: Dengan mengoptimumkan keadaan tindak balas dan nisbah bahan mentah, -ketulenan tinggi ZrC boleh disediakan.
Kelemahan:
Penggunaan tenaga yang tinggi: Kaedah pengurangan haba memerlukan tindak balas dijalankan pada suhu tinggi, menghasilkan penggunaan tenaga yang tinggi.
Keperluan peralatan tinggi: Relau pengkarbonan perlu dapat menahan suhu tinggi dan dilengkapi dengan sistem atmosfera hidrogen, yang memerlukan keperluan peralatan yang tinggi.
4. Contoh aplikasi
Zirkonium karbidadisediakan dengan kaedah pengurangan haba digunakan secara meluas dalam aeroangkasa, pembinaan kapal, kuasa, petroleum, kimia, metalurgi, pemprosesan arang batu dan bidang lain. Contohnya:
Aeroangkasa: Digunakan sebagai lapisan kebuk pembakaran, pendorong jet, bilah turbin dan komponen lain untuk enjin aeroangkasa. ZrC boleh menahan penggunaan jangka panjang-dalam persekitaran suhu tinggi dan tekanan tinggi, meningkatkan hayat perkhidmatan dan keselamatan enjin.
Kapal: Komponen utama yang digunakan sebagai pendorong kapal, seperti cengkerang pendorong, pendorong bawah air, dsb. Rintangan kakisan dan rintangan haus ZrC yang sangat baik boleh memastikan operasi pendorong yang stabil dalam persekitaran yang kompleks seperti air laut.
Elektrik: Digunakan sebagai penukar haba, penukar haba, tiub pertukaran haba, dan komponen lain dalam industri kuasa. Rintangan suhu tinggi yang sangat baik dan rintangan kakisan ZrC boleh memastikan operasi stabil komponen ini dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis.
Kaedah 2: Kaedah Pemendapan Wap Kimia
Pemendapan Wap Kimia (CVD) ialah kaedah menjalankan tindak balas di bawah-keadaan fasa gas. Ia menggunakan gas-pendahulu fasa untuk mengurai menjadi ZrC pada suhu tinggi dan mendepositkannya pada permukaan substrat. Kaedah ini boleh mengawal morfologi dan struktur bahan, dan menyediakan filem ZrC dengan morfologi dan saiz tertentu.
1. Prinsip
Prinsip pemendapan wap kimia adalah berdasarkan tindak balas penguraian gas-pendahulu fasa (seperti zirkonium tetraklorida dan gas hidrokarbon) pada suhu tinggi, menghasilkan ZrC dan sepadan dengan-gas produk. Persamaan tindak balas adalah seperti berikut (mengambil zirkonium tetraklorida dan metana sebagai contoh):
ZrCl4+CH4→ZrC+4HCl
2. Langkah
Langkah-langkah khusus kaedah pemendapan wap kimia adalah seperti berikut:
(1) Penyediaan pelopor fasa-gas:
Campurkan gas-pendahulu fasa (seperti zirkonium tetraklorida dan gas hidrokarbon) secara seragam dalam perkadaran tertentu. Nisbah pencampuran hendaklah dioptimumkan mengikut komposisi filem ZrC yang diperlukan dan keadaan tindak balas.
(2) Rawatan substrat:
Bersihkan dan rawat permukaan bahan substrat (seperti wafer silikon, wafer seramik, dll.) untuk memastikan filem ZrC boleh dimendapkan secara seragam pada permukaan substrat.
(3) Tindak balas pemendapan:
Gas bercampur-pendahulu fasa disalurkan ke wayar tungsten yang dipanaskan pada suhu tinggi (seperti 1700-2400 darjah ). Pada suhu tinggi, gas-pendahulu fasa mengalami tindak balas penguraian, menghasilkan ZrC dan gas hasil sampingan. ZrC memendap pada permukaan substrat untuk membentuk filem nipis.
(4) Pengumpulan bahan penyejuk:
Selepas tindak balas selesai, matikan sumber pemanasan dan biarkan sistem sejuk secara semula jadi ke suhu bilik. Semasa proses penyejukan,-gas produk dibebaskan secara beransur-ansur, akhirnya menghasilkan filem ZrC.
3. Kelebihan dan kekurangan
Kelebihan:
Morfologi boleh dikawal: Pemendapan wap kimia boleh mengawal morfologi dan struktur bahan, dan menyediakan filem ZrC dengan morfologi dan saiz tertentu.
Liputan kuat: Teknologi CVD boleh menutup permukaan bahan termendap, menghasilkan salutan tebal dan struktur arah yang kompleks, sesuai untuk pembuatan salutan di ruang yang melampau.
Prestasi cemerlang: Salutan CVD yang didepositkan pada permukaan bahan yang didepositkan mempunyai sifat mekanikal dan elektrik yang baik, seperti rintangan haus dan rintangan kakisan.
Kos rendah: berbanding kaedah sol gel, kos peralatan kaedah pemendapan wap kimia adalah lebih rendah dan pengeluaran berskala besar-boleh direalisasikan.
Kelemahan:
Peralatan mahal: Pemendapan wap kimia memerlukan peralatan seperti-relau tindak balas suhu tinggi dan-sistem pengangkutan prekursor fasa, yang mahal.
Keperluan teknikal yang tinggi: Pemendapan wap kimia memerlukan kawalan tepat keadaan tindak balas (seperti suhu, tekanan, kadar aliran gas, dll.), dan mempunyai keperluan teknikal yang tinggi.
Pencemaran: Gas ekzos yang dijana melalui kaedah pemendapan wap kimia mengandungi-gas produk (seperti HCl), yang mempunyai tahap pencemaran tertentu.
Had: Pemendapan wap kimia hanya boleh digunakan untuk bahan yang boleh diwap, dan untuk bahan tertentu seperti logam dan sebatian organik yang tidak boleh diwap pada suhu bilik, CVD tidak boleh digunakan untuk pemendapan.
4. Contoh aplikasi
Filem nipis zirkonia yang disediakan oleh pemendapan wap kimia digunakan secara meluas dalam bidang seperti elektronik, optoelektronik, dan pemangkinan. Contohnya:
Elektronik: Bahan yang digunakan untuk menghasilkan-peranti elektronik berkuasa tinggi dan litar-tinggi. Filem nipis ZrC mempunyai kekonduksian yang baik dan-kestabilan suhu yang tinggi, yang boleh meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan peranti elektronik.
Optoelektronik: Bahan yang digunakan untuk penyediaan filem nipis optik, struktur nano dan peranti optik. Filem nipis ZrC mempunyai sifat optik yang sangat baik, yang boleh meningkatkan kecekapan dan prestasi peranti optik.
Pemangkinan: Digunakan sebagai pemangkin atau pembawa pemangkin untuk sintesis organik, penukaran tenaga dan perlindungan alam sekitar. Filem nipis ZrC mempunyai luas permukaan khusus yang besar dan aktiviti yang tinggi, yang boleh meningkatkan kecekapan pemangkin pemangkin.
Kaedah 3: Kaedah sol gel
Kaedah sol gel ialah kaedah penyediaan bahan melalui bahan prekursor dalam keadaan sol dan gel. Dalam penyediaanzirkonium karbida, larutan yang mengandungi ion zirkonium biasanya dicampur dengan sumber karbon yang sesuai untuk membentuk gel, dan kemudian gel ditukar kepada ZrC melalui rawatan haba. Kaedah ini boleh menyediakan zarah ZrC bersaiz nano-dengan luas permukaan khusus yang besar dan aktiviti yang tinggi.
1. Prinsip
Prinsip kaedah sol gel adalah berdasarkan reaksi hidrolisis dan polikondensasi antara larutan yang mengandungi ion zirkonium (seperti zirkonium alkoksida) dan sumber karbon (seperti glukosa) dalam fasa cecair untuk membentuk gel. Selepas pengeringan dan rawatan haba, gel mengalami tindak balas pengurangan karboterma untuk menghasilkan ZrC. Persamaan tindak balas adalah seperti berikut:
Zr(ATAU)4+C6H12O6→ZrC+CO2+H2O
2. Langkah
Langkah-langkah khusus kaedah sol gel adalah seperti berikut:
(1) Penyediaan penyelesaian:
Campurkan larutan yang mengandungi ion zirkonium (seperti zirkonium alkoksida) dengan sumber karbon (seperti glukosa) dalam perkadaran tertentu dan gaul rata. Nisbah pencampuran hendaklah dioptimumkan mengikut komposisi ZrC yang diperlukan dan keadaan tindak balas.
(2) Pembentukan gel:
Larutan campuran dibiarkan berdiri pada suhu bilik untuk satu tempoh masa untuk menjalani reaksi hidrolisis dan polikondensasi untuk membentuk gel. Semasa pembentukan gel, larutan secara beransur-ansur kehilangan kecairannya dan membentuk bahan pepejal dengan kekuatan tertentu.
(3) Rawatan pengeringan:
Gel dikeringkan dalam ketuhar pengeringan untuk menghilangkan lembapan dan pelarut organik daripada gel. Semasa proses pengeringan, isipadu gel secara beransur-ansur mengecut untuk membentuk gel kering berliang.
(4) Rawatan haba:
Panaskan merawat gel kering dalam suasana lengai (seperti argon) dan panaskannya pada suhu tinggi (seperti 1500 darjah ). Semasa rawatan haba, gel kering mengalami tindak balas pengurangan karboterma untuk menghasilkan ZrC.
Pada masa yang sama, struktur berliang dalam gel kering secara beransur-ansur hilang, membentuk zarah ZrC padat.
3. Kelebihan dan kekurangan
Kelebihan:
Tahap nano: Kaedah sol gel boleh menyediakan zarah ZrC tahap nano dengan luas permukaan khusus yang besar dan aktiviti yang tinggi.
Proses mudah: aliran proses kaedah sol gel agak mudah, mudah dikendalikan dan merealisasikan pengeluaran perindustrian.
Kos peralatan yang rendah: berbanding dengan pemendapan wap kimia, kos peralatan kaedah sol gel adalah lebih rendah.
Penjimatan tenaga: suhu tindak balas kaedah sol gel agak rendah, yang boleh menjimatkan tenaga.
Kelemahan:
Kos bahan mentah yang tinggi: kaedah sol gel memerlukan penggunaan-alkoksida zirkonium ketulenan tinggi, glukosa dan bahan mentah lain dan kos bahan mentah adalah tinggi.
Lubang kecil baki: Mungkin terdapat lubang kecil baki dalam zarah ZrC yang disediakan oleh kaedah sol-gel, yang menjejaskan kekompakan dan prestasi bahan.
Kawalan suhu semasa rawatan haba: Kawalan suhu yang tepat diperlukan semasa proses rawatan haba untuk mengelakkan sisa karbon dan menjejaskan ketulenan ZrC.
Masa tindak balas yang panjang: masa tindak balas kaedah sol gel adalah panjang, yang menjejaskan kecekapan pengeluaran.
Kemudaratan pelarut organik: pelarut organik yang digunakan dalam kaedah sol gel adalah berbahaya kepada tubuh manusia.
4. Contoh aplikasi
Nanozarah ZrC yang disediakan dengan kaedah sol-gel digunakan secara meluas dalam bidang bioperubatan, pemangkin, elektronik dan lain-lain. Contohnya:
Bioperubatan: Digunakan sebagai sendi tiruan dan bahan pergigian. Nanopartikel ZrC mempunyai biokompatibiliti dan biostabilitas yang sangat baik, dan boleh serasi dengan tisu manusia tanpa menyebabkan tindak balas penolakan.
Pemangkinan: Digunakan sebagai pembawa pemangkin. ZrC nanopartikel mempunyai luas permukaan khusus yang besar dan aktiviti yang tinggi, yang boleh meningkatkan kecekapan pemangkin pemangkin.
Elektronik: Bahan yang digunakan untuk mengeluarkan-peranti elektronik berprestasi tinggi.Zirkonium karbidananopartikel mempunyai kekonduksian yang sangat baik dan-kestabilan suhu tinggi, yang boleh meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan peranti elektronik.
Cool tags: zirkonium karbida cas 12070-14-3, pembekal, pengilang, kilang, borong, beli, harga, pukal, untuk dijual