Metoksi propanoldan etilena glikol eter tergolong dalam pelarut eter alkohol binari, iaitu cecair tidak berwarna dan lutsinar. Ketoksikan propilena glikol eter kepada tubuh manusia adalah lebih rendah daripada produk eter etilena glikol, dan ia tergolong dalam eter toksik rendah. Propilena glikol metil eter mempunyai bau eter yang samar, tetapi tiada bau pedas yang kuat, menjadikannya lebih banyak digunakan dan selamat. Oleh kerana struktur molekulnya mengandungi kedua-dua kumpulan eter dan kumpulan hidroksil, ia mempunyai keterlarutan yang sangat baik, kadar volatilisasi yang sesuai dan aktiviti tindak balas, dan telah digunakan secara meluas. Ia digunakan terutamanya sebagai pelarut yang sangat baik untuk nitroselulosa, resin alkyd dan anhidrida maleik resin fenolik yang diubah suai, sebagai antibeku untuk bahan api jet dan bahan tambahan untuk cecair brek; Ia digunakan terutamanya sebagai pelarut, dispersant dan pelarut, dan juga sebagai bahan api antibeku dan pengekstrak.
|
Formula Kimia |
C4H10O2 |
|
Misa tepat |
90 |
|
Berat Molekul |
90 |
|
m/z |
90 (100.0%), 91 (4.3%) |
|
Analisis Unsur |
C, 53.31; H, 11.18; O, 35.51 |
|
|
|
Kaedah penyediaanMetoksi Propanol(biasanya lebih tepat dirujuk sebagai propylene glycol monomethyl ether) diterangkan seperti berikut:
(1) Penyediaan bahan mentah:
Dapatkan epiklorohidrin dan metanol sebagai bahan tindak balas.
Sediakan mangkin, iaitu tanah diatom yang dibenamkan dengan ferik klorida. Antaranya, berat ferik klorida ialah 2% daripada berat epiklorohidrin.
(2) Tetapan peranti:
Pilih bekas yang sesuai untuk tindak balas suhu-tinggi dan{1}}tinggi, seperti-reaktor tekanan tinggi.
Sediakan sistem kawalan suhu dan tekanan untuk bekas tindak balas bagi memastikan kawalan tepat suhu dan tekanan tindak balas.
(1) Mencampur bahan mentah:
Campurkan epoksi propana dan metanol secara sekata dalam nisbah molar 1:3.
(2) Tambah mangkin:
Tambah mangkin bumi diatom yang telah disediakan yang dibenamkan dengan ferik klorida ke dalam campuran tindak balas.
(3) Tindak balas pemanasan:
Panaskan campuran tindak balas kepada 190 darjah .
Kekalkan tekanan tindak balas pada 1.5 MPa (atau 1500 kPa).
Masa tindak balas ialah 50 minit.
Penyulingan vakum: Selepas tindak balas selesai, campuran tindak balas tertakluk kepada penyulingan vakum untuk memisahkan propilena glikol monometil eter.
Penyulingan tekanan berkurangan membantu menurunkan suhu penyulingan, dengan itu mengurangkan penguraian produk termosensitif.
(1) Penentuan hasil: Hasil propilena glikol monometil eter ditentukan dengan menimbang atau kaedah lain yang sesuai, dan hasil adalah 98.2%.
(2) Ujian ketulenan: Gunakan kromatografi atau teknik analisis lain untuk menguji ketulenan produk, dan dapatkan ketulenan 99.1%.
Aplikasi daripadaMetoksi Propanol(juga dikenali sebagai 1-methoxy-2-propanol, disingkatkan sebagai PGME) dalam photoresist semikonduktor adalah bidang yang penting dan khusus di antara banyak kegunaannya. Photoresist adalah bahan yang sangat diperlukan dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya digunakan untuk fabrikasi mikro litar bersepadu dan peranti diskret semikonduktor. Ia juga mempunyai pelbagai aplikasi dalam proses pengeluaran paparan panel rata, LED, flip flop, kepala magnet dan penderia ketepatan. Propilena glikol metil eter, sebagai komponen pelarut penting bagi photoresist, memainkan peranan penting dalam prestasi dan proses pembuatan photoresist.
Photoresist, juga dikenali sebagai photoresist, terdiri daripada komponen utama dan pelarut. Pelarut utama yang kini digunakan untuk fotoresist ialah propilena glikol metil eter asetat (PMA), tetapi propilena glikol metil eter (PGME) juga digunakan sebagai pelarut atau pelarut tambahan dalam beberapa formulasi fotoresist. Komponen utama photoresist termasuk resin, monomer, photoinitiators, dan aditif. Antaranya, kandungan resin menyumbang kira-kira 50% hingga 60% daripada komponen utama, dan kandungan monomer menyumbang kira-kira 35% hingga 45%. Prinsip photoresist adalah menggunakan sumber cahaya seperti cahaya ultraungu, laser excimer, pancaran elektron, pancaran ion, sinar X-, dsb. untuk menyinari atau memancar, menyebabkan perubahan dalam keterlarutannya, seterusnya membentuk corak yang diingini pada wafer silikon.
2. Peranan Propylene Glycol Methyl Ether Dalam Photoresist
(1) Tindakan pelarut:
Propilena glikol metil eter digunakan terutamanya sebagai pelarut dalam photoresist. Ia boleh melarutkan fotosensitizer pepejal dan bahan tambahan untuk membentuk campuran cecair, memastikan kebolehliran fotoresist yang baik. Kecairan ini adalah penting untuk salutan seragam fotoresist pada permukaan wafer melalui teknologi salutan putaran.
(2) Melaraskan kelikatan:
Penambahan propilena glikol metil eter boleh melaraskan kelikatan photoresist, menjadikannya lebih sesuai untuk proses salutan tertentu. Pelarasan kelikatan yang betul membantu memastikan pengedaran seragam fotoresist semasa proses salutan, mengelakkan penjanaan buih dan kecacatan.
(3) Meningkatkan prestasi salutan:
Propilena glikol metil eter mempunyai kemeruapan sederhana dan boleh menyejat dengan cepat semasa proses salutan, meninggalkan filem photoresist yang seragam dan padat. Ini membantu meningkatkan lekatan dan rintangan kakisan photoresist.
(4) Pengaruh pada kesan litografi:
Beberapa sifat fizikal dan kimia propilena glikol metil eter, seperti takat didih, keterlarutan, dan tegangan permukaan, boleh memberi kesan tertentu pada kesan litografi fotoresist. Sebagai contoh, takat didih yang sesuai boleh memastikan bahawa photoresist tidak mengubah bentuk corak semasa pendedahan disebabkan oleh penyejatan pelarut yang cepat.
3. Aplikasi Khusus Propylene Glycol Methyl Ether Dalam Semikonduktor Photoresist
(1) Photoresist tinggi:
Dalam photoresist-tinggi, propilena glikol metil eter boleh digunakan sebagai pelarut atau bahan tambahan tambahan. Fotoresist ini biasanya digunakan untuk mengeluarkan peranti semikonduktor dengan penyepaduan yang lebih tinggi dan struktur yang lebih kompleks. Penambahan propilena glikol metil eter boleh meningkatkan prestasi salutan dan kesan litografi photoresist, dengan itu meningkatkan hasil dan prestasi peranti.
(2) Photoresist ArF:
ArF photoresist ialah salah satu bahan utama yang digunakan untuk pembuatan peranti semikonduktor dengan nod proses 7nm dan ke bawah.
Propilena glikol metil eter boleh digunakan sebagai pelarut atau aditif dalam fotoresist ArF untuk meningkatkan prestasi salutan dan kesan litografinya. Photoresist ArF mempunyai keperluan pelarut yang sangat tinggi, dan sifat tertentu propilena glikol metil eter menjadikannya pilihan yang sesuai.
(3) Jenis photoresist lain:
Selain fotoresist ArF, propilena glikol metil eter juga boleh digunakan dalam jenis fotoresist lain, seperti photoresist KrF, i-line photoresist, dll. Photoresist ini mempunyai julat aplikasi dan keperluan proses yang berbeza dalam proses pembuatan semikonduktor. Penambahan propylene glycol metil eter boleh melaraskan prestasi dan kesan salutan photoresist mengikut keperluan khusus.
4. Pengaruh Propylene Glycol Methyl Ether Terhadap Proses Pengilangan Semikonduktor
(1) Meningkatkan kecekapan pengeluaran:
Penambahan propilena glikol metil eter boleh meningkatkan prestasi salutan dan kesan litografi fotoresist, dengan itu meningkatkan kecekapan pengeluaran peranti semikonduktor. Salutan seragam dan corak litografi yang jelas membantu mengurangkan kecacatan dan kadar kerja semula, memendekkan kitaran pengeluaran.
(2) Mengurangkan kos pengeluaran:
Dengan mengoptimumkan proses perumusan dan salutan fotoresist, kos pengeluaran peranti semikonduktor dapat dikurangkan. Sebagai salah satu komponen penting photoresist, penggunaan rasional propilena glikol metil eter boleh mengurangkan pembaziran dan kerugian yang tidak perlu, dengan itu mengurangkan kos pengeluaran.
(3) Meningkatkan prestasi peranti:
Penambahbaikan prestasi fotoresist oleh propilena glikol metil eter membantu meningkatkan prestasi peranti semikonduktor. Sebagai contoh, salutan yang lebih seragam dan corak litografi yang lebih jelas boleh mengurangkan parameter parasit seperti rintangan dan kapasitansi peranti, dan meningkatkan prestasi seperti kelajuan dan penggunaan kuasa.
(4) Menggalakkan peningkatan teknologi:
Dengan pembangunan berterusan teknologi semikonduktor, keperluan untuk photoresist juga semakin meningkat. Pengenalan pelarut dan aditif baharu seperti propilena glikol metil eter boleh menggalakkan peningkatan dan kemajuan teknologi fotoresist, membawa lebih banyak inovasi dan peluang pembangunan kepada bidang pembuatan semikonduktor.
Metoksi Propanol, sebagai salah satu komponen penting fotoresist semikonduktor, mempunyai prospek aplikasi yang luas dan kelebihan dalam proses pembuatan semikonduktor. Dengan mengoptimumkan proses perumusan dan salutan fotoresist, kecekapan pengeluaran dan prestasi peranti semikonduktor boleh dipertingkatkan, dan kos pengeluaran dapat dikurangkan. Bagaimanapun, isu alam sekitar dan keselamatannya juga perlu diberi perhatian yang secukupnya. Pada masa hadapan, dengan pembangunan berterusan teknologi semikonduktor dan peningkatan kesedaran tentang perlindungan alam sekitar, pengenalan pelarut dan aditif baharu seperti propilena glikol metil eter akan menggalakkan peningkatan dan kemajuan teknologi fotoresist, membawa lebih banyak inovasi dan peluang pembangunan kepada bidang pembuatan semikonduktor. Pada masa yang sama, ia juga perlu untuk mengukuhkan penyelidikan dan penyeliaan terhadap perlindungan dan keselamatan alam sekitar, untuk memastikan pembangunan mampan proses pembuatan semikonduktor dan keselamatan kakitangan dan alam sekitar.
Soalan Lazim
Apakah methoxy propanol digunakan?
+
-
Methoxy propanol kebanyakannya digunakan dalam pembuatan propilena glikol metil eter asetat (atau dikenali sebagai PMA) dan juga digunakan dalam produk perindustrian dan komersial termasuk cat, varnis, dakwat, resin sintetik dan pelekat getah, serta pembersih automotif dan ketuhar.
Adakah methoxy propanol toksik?
+
-
1-Methoxy-2-propanol ialah bahan toksik ringan. Ketoksikan adalah lebih rendah daripada metil, etil, dan eter butil etilena glikol. Gejala toksik daripada menyedut kepekatan tinggi adalah loya, muntah, dan kesan anestetik am. Pada manusia, kesan toksik boleh dirasai apabila terdedah kepada tahap 3000–4000 ppm.
Apakah kegunaan Methoxyisopropanol?
+
-
Kegunaan utama Methoxyisopropanol ialahdalam cat. Nama lain untuk Methoxyisopropanol termasuk 1-methoxy-2-hydroxypropane, 1-methoxy-2-propanol dan Propylene Glycol Monomethyl Ether (PGME).
Apakah kegunaan methoxypropane?
+
-
Dipasarkan di bawah nama dagangan Metopryl dan Neothyl, methoxypropane telah digunakansebagai alternatif kepada dietil eterkerana potensinya yang lebih besar. Penggunaannya sebagai anestetik sejak itu telah digantikan oleh eter halogen moden yang kurang mudah terbakar.
Apakah kegunaan methoxyphenol?
+
-
Methoxyphenols digunakandalam pembuatan antioksidan, dan farmaseutikal. 2- Methoxyphenol digunakan sebagai ekspektoran, dan dalam perisa sintetik.
Adakah propanol berbahaya kepada manusia?
+
-
Walau bagaimanapun,hanya satu kes keracunan maut oleh 1-propanol telah dilaporkan. Kesan akut 1-propanol yang paling berkemungkinan pada manusia ialah mabuk alkohol dan narkosis. Hasil kajian haiwan menunjukkan bahawa 1-propanol adalah 2 - 4 kali lebih memabukkan daripada etanol. 1-Propanol mungkin merengsakan kulit yang terhidrat.
Apakah kesan sampingan Methoxyisopropanol?
+
-
Boleh menyebabkan rasa mengantuk atau pening. H226 Cecair dan wap mudah terbakar. H336 Boleh menyebabkan rasa mengantuk atau pening. P210 Jauhkan daripada haba, permukaan panas, percikan api, nyalaan terbuka dan sumber pencucuhan lain.
Cool tags: methoxy propanol cas 107-98-2, pembekal, pengilang, kilang, borong, beli, harga, pukal, untuk dijual