Tungsten (VI) kloridaadalah sebatian bukan organik yang terdiri daripada unsur tungsten dan klorin, dengan formula kimia WCL ₆. Ia kelihatan sebagai serbuk kristal halus biru atau biru gelap dan mudah larut dalam karbon disulfida dan pelarut organik seperti eter, etanol, benzena, dan karbon tetrachloride. Ia sensitif terhadap kelembapan dan mudah diuraikan oleh air panas. Apabila dipanaskan, ia akan dioksidakan oleh oksigen di udara, menghasilkan tungsten oxychloride (Wocl ₄, wo ₂ cl ₂) atau tungsten oxide. Tungsten hexachloride yang mengandungi tungsten oxychloride sangat mudah terdedah kepada penguraian oleh wap air. Di bawah keadaan suhu tinggi, ia dapat dikurangkan oleh gas hidrogen untuk mendakan serbuk tungsten. Ia boleh digunakan untuk pemendapan wap logam tungsten untuk meningkatkan kekerasan dan memakai rintangan permukaan bahan. Dalam industri elektronik, ia merupakan bahan mentah yang penting untuk menghasilkan dawai kristal tunggal. Ia juga boleh digunakan untuk membentuk lapisan konduktif di permukaan kaca untuk meningkatkan kekonduksiannya. Ia mempunyai prestasi pemangkin yang baik dan boleh digunakan sebagai pemangkin untuk pempolimeran olefin untuk menggalakkan tindak balas sintesis organik. Dalam industri kimia, ia digunakan untuk pemurnian tungsten dan sintesis sebatian organik untuk meningkatkan kualiti produk dan kecekapan tindak balas. Ia juga digunakan secara meluas dalam industri seperti pertanian, kejuruteraan kimia, pemangkinan petroleum, dan kaca pintar.
Maklumat tambahan kompaun kimia:
|
Formula kimia |
Cl6w |
|
Jisim tepat |
393.76 |
|
Berat molekul |
396.54 |
|
m/z |
395.76(100.0%),397.76(92.8%),393.76(86.5%),397.76 (79.9%),399.76(74.1%),395.76(69.1%),393.76(52.1%),395.77(48.4%), 394.76 (46.7%), 391.76 (45.1%), 396.76 (37.3%), 399.76 (34.1%), 401.76 (31.6%), 397.75 (29.4%), 392.76 (24.4%), 398.75 (15.9%), 401.75 (8.2%), 403.76 (7.6%), 399.75 (7.1%), 400.75 (3.8%), 403.75 (1.0%) |
|
Analisis Elemental |
CL, 53.64; W, 46.36 |
|
Titik lebur |
275 darjah (lit.) |
|
Titik mendidih |
347 darjah (lit.) |
|
Ketumpatan |
3.52 g/ml pada 25 darjah (Lit.) |
|
|
 |
Tungsten (VI) klorida, dengan formula kimia WCL ₆, adalah sebatian bukan organik yang penting. Ia memainkan peranan penting dalam pelbagai bidang seperti kejuruteraan kimia, sains bahan, dan industri elektronik kerana sifat kimia yang unik dan pelbagai aplikasi. Berikut adalah kegunaannya:
Permohonan dalam bidang kejuruteraan kimia
Ia boleh digunakan sebagai reagen untuk mengambil bahagian dalam pelbagai tindak balas organik, seperti tindak balas halogenasi, tindak balas tambahan, dan lain -lain. Dalam tindak balas halogenasi, tungsten hexachloride dapat menjalani tindak balas penggantian dengan atom hidrogen dalam sebatian organik untuk membentuk sebatian halogen. Reaksi ini mempunyai aplikasi yang luas dalam sintesis organik dan boleh digunakan untuk menyediakan sebatian seperti hidrokarbon halogenasi dan alkohol halogen. Di samping itu, tungsten hexachloride boleh menjalani tindak balas tambahan dengan sebatian tak tepu seperti olefin dan alkynes untuk menghasilkan produk tambahan. Reaksi ini juga sangat penting dalam sintesis organik dan boleh digunakan untuk menyediakan sebatian seperti alkohol, eters, keton, dan lain -lain. Ia juga boleh berfungsi sebagai pemangkin untuk mempromosikan pelbagai reaksi organik. Seperti yang dinyatakan sebelum ini, tungsten hexachloride mempamerkan prestasi pemangkin yang sangat baik dalam pempolimeran olefin, tindak balas esterifikasi, tindak balas isomerisasi, dan tindak balas pengoksidaan. Dengan menyesuaikan keadaan tindak balas dan dos pemangkin, tahap tindak balas dan selektiviti produk boleh dikawal, mengakibatkan sebatian organik dengan sifat yang berbeza. Ia juga bertindak sebagai ligan untuk membentuk sebatian organik logam dengan ion logam.
Peranan dalam sintesis tak organik
Tungsten hexachloride boleh digunakan sebagai bahan mentah atau pertengahan untuk mengambil bahagian dalam pelbagai reaksi anorganik. Ia adalah salah satu bahan mentah yang penting untuk menyediakan sebatian tungsten lain. Melalui tindak balas kimia, tungsten hexachloride boleh ditukar menjadi sebatian seperti tungsten oksida, tungsten karbida, dan tungsten nitride. Sebatian ini mempunyai aplikasi yang luas dalam bidang seperti Sains Bahan dan Industri Elektronik. Sebagai contoh, tungsten oksida boleh digunakan untuk menyediakan bahan photocatalytic, sensor gas, dan lain -lain; Tungsten Carbide boleh digunakan untuk menyediakan alat pemotongan aloi keras, acuan, dan lain -lain. Ia juga boleh mengambil bahagian dalam pelbagai reaksi anorganik sebagai pertengahan. Sebagai contoh, dalam penyediaan sebatian bukan organik kompleks tertentu, tungsten hexachloride boleh bertindak balas dengan sebatian lain untuk membentuk perantaraan, dan kemudian produk sasaran dapat diperoleh melalui reaksi selanjutnya. Kaedah ini sangat penting dalam sintesis bukan organik dan boleh digunakan untuk menyediakan bahan -bahan bukan organik dengan struktur dan sifat tertentu.
Pemendapan wap adalah teknik pengubahsuaian permukaan bahan yang biasa digunakan yang boleh membentuk salutan padat pada permukaan substrat. Tungsten hexachloride adalah salah satu bahan mentah yang penting untuk menyediakan salutan tungsten dengan kaedah pemendapan wap. Dengan menggunakan kaedah seperti pemendapan wap kimia (CVD) atau pemendapan wap fizikal (PVD), tungsten hexachloride boleh diuraikan ke dalam logam tungsten dan salutan tungsten padat boleh dibentuk di permukaan substrat. Lapisan ini mempunyai kekerasan yang tinggi, rintangan haus yang tinggi, dan kekonduksian yang baik, dan digunakan secara meluas dalam bidang seperti alat pemotong, acuan, dan komponen elektronik. Kawat tungsten kristal tunggal adalah bahan elektronik yang penting dengan titik lebur yang tinggi, ketahanan tinggi, dan kestabilan terma yang baik. Tungsten hexachloride adalah salah satu bahan mentah yang penting untuk menghasilkan dawai kristal tunggal.
Permohonan dalam penyediaan bahan dan rawatan permukaan
Tungsten hexachloride boleh ditukar menjadi dawai tungsten kristal tunggal melalui kaedah seperti pemendapan wap kimia atau pemendapan wap fizikal. Kawat tungsten kristal tunggal ini mempunyai pelbagai aplikasi dalam bidang seperti pelepasan elektron dan sumber elektron panas. Ia juga boleh digunakan untuk membentuk lapisan konduktif di permukaan kaca. Dengan menggunakan kaedah seperti pemendapan wap kimia atau pemendapan wap fizikal, tungsten hexachloride boleh didepositkan di permukaan kaca untuk membentuk filem tungsten padat. Lapisan konduktif ini mempunyai ketelusan yang tinggi, resistiviti yang rendah, dan lekatan yang baik, dan digunakan secara meluas dalam bidang seperti skrin sentuhan dan sel solar. Di samping itu, lapisan konduktif tungsten hexachloride juga boleh digunakan untuk menyediakan bahan -bahan baru seperti kaca pintar, mencapai pelarasan automatik transmisi kaca.
Permohonan dalam bidang industri elektronik
Dalam industri elektronik, tungsten digunakan secara meluas dalam pembuatan pelbagai komponen elektronik kerana titik lebur yang tinggi, kekerasan tinggi, kekonduksian yang baik, dan kestabilan haba.Tungsten (VI) klorida, sebagai bahan mentah yang penting untuk menyediakan salutan tungsten, boleh membentuk lapisan tungsten padat pada permukaan substrat melalui kaedah seperti pemendapan wap kimia (CVD) atau pemendapan wap fizikal (PVD). Lapisan tungsten ini mempunyai kekerasan yang tinggi, rintangan haus yang tinggi, dan kekonduksian yang baik, yang dapat meningkatkan prestasi dan jangka hayat komponen elektronik. Sebagai contoh, dalam pembuatan peranti semikonduktor, tungsten hexachloride boleh digunakan untuk menyediakan lapisan penghalang penyebaran. Lapisan penghalang penyebaran adalah lapisan utama yang menghalang atom kekotoran daripada meresap pada permukaan cip semikonduktor, dan mempunyai kesan yang signifikan terhadap prestasi dan kebolehpercayaan peranti. Melalui pemendapan wap kimia, tungsten hexachloride boleh terurai ke dalam tungsten logam dan membentuk lapisan penghalang tungsten padat pada permukaan cip semikonduktor, dengan berkesan menghalang penyebaran atom -atom kekotoran.
Permohonan dalam pembuatan peranti mikroelektronik
Dalam pembuatan litar bersepadu, interkoneksi logam adalah komponen utama yang menghubungkan pelbagai komponen elektronik. Tungsten hexachloride boleh digunakan sebagai salah satu bahan mentah untuk menyediakan interkoneksi logam, membentuk lapisan logam tungsten padat pada permukaan cip melalui kaedah seperti pemendapan wap kimia. Lapisan logam tungsten ini mempunyai kekonduksian yang baik dan kestabilan terma, yang dapat memenuhi permintaan untuk interkoneksi logam berprestasi tinggi dalam litar bersepadu. Dalam pembuatan litar bersepadu, lubang kenalan dan melalui lubang adalah saluran utama untuk menghubungkan komponen elektronik pada tahap yang berbeza. Tungsten hexachloride boleh digunakan sebagai salah satu bahan mentah untuk mengisi lubang kenalan dan melalui lubang, membentuk lapisan logam tungsten padat dalam lubang melalui kaedah seperti pemendapan wap kimia. Lapisan logam tungsten ini mempunyai pengisian dan kekonduksian yang baik, yang dapat meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan litar bersepadu.
Dalam industri elektronik, rawatan konduktif permukaan kaca adalah salah satu langkah utama untuk mencapai hubungan yang baik antara komponen kaca dan elektronik. Tungsten hexachloride boleh digunakan sebagai salah satu bahan mentah untuk agen rawatan konduktif, membentuk lapisan logam tungsten padat di permukaan kaca melalui kaedah seperti pemendapan wap kimia. Lapisan logam tungsten ini mempunyai kekonduksian dan lekatan yang baik, yang dapat mencapai hubungan yang baik antara komponen kaca dan elektronik, dan meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan komponen elektronik. Tungsten hexachloride juga memainkan peranan penting dalam proses pembungkusan dan interkoneksi peranti mikroelektronik. Sebagai contoh, dalam pembungkusan cip flip, tungsten hexachloride boleh digunakan sebagai salah satu bahan mentah untuk bahan ikatan, membentuk lapisan logam tungsten padat di antara cip dan substrat melalui kaedah seperti pemendapan wap kimia. Lapisan logam tungsten ini mempunyai kekonduksian yang baik dan kestabilan terma, yang dapat mencapai interkoneksi yang baik antara cip dan substrat, dan meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan peranti yang dibungkus.
Eksplorasi dalam bidang aplikasi yang muncul
Dengan perkembangan pesat peranti elektronik yang fleksibel, permintaan untuk prestasi elektronik yang tinggi dan kestabilan tinggi semakin meningkat setiap hari.Tungsten (VI) klorida, sebagai bahan elektronik dengan sifat elektrik yang sangat baik dan kestabilan terma, telah menunjukkan prospek aplikasi yang luas dalam penyediaan peranti elektronik yang fleksibel. Sebagai contoh, tungsten hexachloride boleh digunakan untuk menyediakan komponen utama seperti elektrod fleksibel dan interkoneksi fleksibel, memberikan sokongan yang kuat untuk pembangunan peranti elektronik yang fleksibel. Teknologi integrasi tiga dimensi adalah salah satu cara penting untuk meningkatkan tahap integrasi dan prestasi litar bersepadu. Tungsten hexachloride, sebagai bahan elektronik dengan pengisian dan kekonduksian yang sangat baik, memainkan peranan penting dalam pelaksanaan teknologi integrasi tiga dimensi. Sebagai contoh, tungsten hexachloride boleh digunakan untuk mengisi lubang dan lubang kenalan dalam struktur bersepadu tiga dimensi, mencapai interkoneksi yang baik antara komponen elektronik pada tahap yang berbeza dan meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan litar bersepadu.
Cool tags: tungsten (vi) cloride cas 13283-01-7, pembekal, pengeluar, kilang, borong, beli, harga, pukal, untuk dijual